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產(chǎn)品詳細(xì)頁
雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡

雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡

  • 產(chǎn)品型號:
  • 更新時間:2023-12-21
  • 產(chǎn)品介紹:雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡
    TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射鍍膜技術(shù),這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時常見的散射和吸收損失降至最/低。 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應(yīng)用,因?yàn)樗鼈儗⒈3殖堂}沖持續(xù)時間,而使用更傳統(tǒng)的激光反射鏡時很難保持這種持續(xù)時間。
  • 廠商性質(zhì):代理商
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產(chǎn)品介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

雙波段低 GDD 超快反射鏡

  • 用于超快光束轉(zhuǎn)向的高反射率和低 GDD

  • 離子束濺射鍍膜最大限度地減少散射和吸收損失

  • 設(shè)計波長范圍內(nèi)的近零群延遲色散

TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射膜技術(shù),這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時常見的散射和吸收損失降至最/低 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應(yīng)用,因?yàn)樗鼈儗⒈3殖堂}沖持續(xù)時間,而使用更傳統(tǒng)的激光反射鏡時很難保持這種持續(xù)時間。

通用規(guī)格

入射角 (°):45鍍膜類型:
S1: Dielectric
S2: Stress-compensating
波長范圍 (nm):500 - 540, 1000 - 1070
后表面:Commercial Polish鍍膜規(guī)格:
Rs>99.9% @500-540nm;
Rp>99.8% @505-530nm;
Rs>99.9% @1000-1070nm,
Rp>99.8% @1000-1070nm
基底:Fused Silica
平行度(弧分):<3
有效孔徑 (%):>90
典型應(yīng)用:Beam transport of 1st and 2nd harmonic of Yb:doped lasers
<35fs2@ 500 - 540nm (s-pol)
<50fs2@ 505 - 530nm (p-pol)
<20fs2@ 1000 - 1070nm (s-pol)
<40fs2@ 1000 - 1070nm (p-pol)
鍍膜:Ultrafast (500-540, 1000-1070nm)
表面質(zhì)量:10-5GDD Specification:
設(shè)計波長 DWL (nm):515, 1030

產(chǎn)品型號

標(biāo)題產(chǎn)品編碼
515, 1030nm, 12.7mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror#17-286
515, 1030nm, 25.4mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror#17-287
515, 1030nm, 50.8mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror#17-288

UltraFast Innovations (UFI) EUV 阿秒多層反射鏡

  • 設(shè)計用于 330 阿秒脈沖 @ 65eV (19nm)

  • 具有 38% 峰值反射率的多層鍍膜

  • ≤1? 表面粗糙度超拋光基材

  • 13.5nm 設(shè)計的 EUV 平面鏡和 EUV 球面鏡也可提供

UltraFast Innovations (UFI) 極紫外 (EUV) 阿秒多層反射鏡專為控制、聚焦和整形阿秒脈沖而設(shè)計。 它們的多鍍膜 65eV (19nm) 為中心,帶寬為 6eV (1.8nm),為 s 偏振光提供 38% 的峰值反射率。 這些反射鏡支持時間持續(xù)時間為 330 阿秒的 EUV 脈沖。 UFI 極紫外 (EUV) 阿秒鏡非常適合基于高次諧波 (HHG)、自由電子激光器 (FEL) 或其他量子光學(xué)應(yīng)用的阿秒脈沖生成和整形。 提供直徑為25.4mm的平面鏡和凹面鏡; 如果您的應(yīng)用需要具有定制中心能量、帶寬或其他規(guī)格的 EUV 多層反射鏡,請聯(lián)系我們。

通用規(guī)格

直徑 (mm):25.40 ±0.13基底:Fused Silica
后表面:Commercial Polish鍍膜規(guī)格:Rs > 38% @ 65eV/19nm
表面質(zhì)量:10-5鍍膜:EUV Multilayer (19nm)
入射角 (°):5有效孔徑 (%):80
設(shè)計波長 DWL (nm):19邊緣:Fine Ground
表面粗糙度(埃):<1Center Energy (eV):65 ±2
Bandwidth (eV):6Supported Pulse Duration:330 attoseconds
邊緣厚度 ET (mm):6.35 ±0.20

產(chǎn)品型號

標(biāo)題產(chǎn)品編碼
25.4mm Dia., 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Flat Mirror#16-765
25.4mm Dia. x 250mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror#16-766
25.4mm Dia. x 500mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror#16-767

技術(shù)數(shù)據(jù)

超快增強(qiáng)型銀膜離軸拋物面 (OAP) 反射鏡

  • 用于 Ti:sapphire 和 Yb:doped 激光器的超快增強(qiáng)型銀膜

  • 600 - 1050nm 范圍的群延遲色散低 (0±20fs2)

  • <50? RMS 表面粗糙度,以最/大程度地減少散射

TECHSPEC® 超快增強(qiáng)型銀膜離軸拋物面 (OAP) 反射鏡用于準(zhǔn)直或聚焦指/定偏移角度的入射光。這些反射鏡鍍有超快增強(qiáng)型銀膜,在 600 - 1050nm 范圍內(nèi)提供 >99% 的反射率,同時保持 0 ±20fs2的低群延遲色散 (GDD)。這些反射鏡的離軸設(shè)計將焦點(diǎn)與光束路徑分開,從而在焦點(diǎn)周圍提供更多交互空間,而不會干擾入射光束。TECHSPEC 超快增強(qiáng)型銀膜 OAP 反射鏡非常適合聚焦來自中低功率超快激光器的激光,包括 Ti:sapphire 和 Yb:doped 光纖激光器,同時最大限度地減少超快脈沖的時間擴(kuò)展。帶有垂直于光軸的孔的安裝板可用于將這些反射鏡安裝到臺式系統(tǒng)中。

通用規(guī)格

焦距容差 (%):±1涂層規(guī)格:
Ravg>99% @ 600 - 1000nm, 0°
Rs>99% @ 540 - 1000nm, 45°
Rp>98.5% @ ~730 - 870nm, 45°
波長范圍 (nm):600 - 1050
面形計算 (RMS):λ/4
偏離角度 (°):90鍍膜類型:Ultrafast Enhanced Silver
表面粗糙度(埃):<50 RMS反射波前, RMS:λ/8
表面質(zhì)量:80-50基底:Aluminum 6061-T6
涂層:Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)

產(chǎn)品型號

Dia. (mm)EFL (mm)涂層產(chǎn)品編碼
12.7012.70Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-133
12.7025.40Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-134
12.70203.20Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-138
25.4025.40Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-139
25.4050.80Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-140
25.40203.20Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-146
50.8050.80Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-147
50.80190.60Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-152

技術(shù)數(shù)據(jù)

600-1050nm Ultrafast-Enhanced Silver


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